中国企業による米国知的財産権訴訟への対応に関する青書
中国は知的財産権の利用国から創出国へと変貌を遂げており、中国企業は、海外市場の開拓と事業の安定化の過程において、知的財産権訴訟への対応が不可避です。経験不足などのため、中国企業は、アメリカのハイテク企業が現地の裁判所で提起された知的財産権訴訟に対応するとき、途方に暮れる場合があります。
方達法律事務所の知的財産権チームは、実務経験を踏まえて「中国企業による米国知的財産権訴訟への対応に関する青書」を作成し、近年、中国企業が米国で知的財産権訴訟を提起された事件について整理・研究しました。特に、米国での訴訟リスクの軽減策、自社の知的財産権の管理方法、米国での訴訟への対応方法、米国での訴訟費用の管理方法等について分析し、実務的な助言を提供すると同時に、米国特許訴訟及び営業秘密訴訟に対応するための詳細な手続を記載したうえ、抗弁方法についても提案しています。
